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              光氧催化設備中幾種除臭技能的剖析比較

              光氧催化設備中幾種除臭技能的剖析比較
              近年來,污水處理中氣味污染問題越來越受到人們的重視。從污水處理的進氣、格柵和曝氣過程來看,光氧催化設備枯燥過程發生的惡臭污染更為集中、嚴重。
              光氧催化設備過程中,惡臭物質首要由碳、氮、硫組成。大多數氣味物質是有機化合物,只有少數氣味物質是無機化合物,從組成中氨的濃度較高,其次是硫化氫;甲硫醇的氣味濃度,其次是硫化氫。
              硫化氫(h2s)是一種無色、臭雞蛋味、刺激性、窒息性和腐蝕性氣體。對金屬材料、脫水設備和管道有一定的腐蝕作用。硫化氫到達一定濃度時,對人體健康損害極大。
              二是。污水廠常用除臭技能的作業原理描述
              污水處理過程中氣味操控的首要方法和技能有直接焚燒、化學清洗、離子氧化、生物脫臭、活性炭物理吸附、植物液空間霧化等。首要介紹了離子法(活性氧法)、化學清洗法、生物過濾法、活性炭物理吸附法、植物液體空間霧化法。
              1. 高能離子法(活性氧種類)
              高能離子法經過離子發生器發射高能正離子和負離子,與氣味中的有機揮發性氣體分子接觸,打開有機分子的化學鍵,將其分解成二氧化碳和水。正離子和負離子與空氣中的塵土顆粒和固體顆粒發生碰撞,使顆粒核能發生聚合反響,構成較大的顆粒,經過本身重力堆積到達凈化的意圖。
              活性氧技能是運用特別的方式高壓脈沖放電的靜電(活性氧管發射數千億高能離子)每秒,很多的高密度的活性氧分子,和活躍的陰離子,光電子學和羥基自由基,氧化活性物質,廢氣污染物和細菌,病毒和其他氧化可以分解為CO2, h2o,如無機小分子,空氣中的氧分子在受到刺激的同時發生活性氧,與有機分子發生一系列的連鎖反響,并運用能量使氧化反響得以繼續,進一步氧化有機物。
              2. 化學清洗方法
              化學清洗方法是運用化學介質(NaOH、NaOCI)和H2O等廢氣進行酸堿中和反響,然后到達除臭的意圖。
              氣味是由化學反響操控的,這些化學反響改變了氣味物質的化學和物理性質。例如,硫化氫經過化學反響轉化為硫化鐵。硫化氫是一種有強烈臭雞蛋味的氣體,而硫化鐵是一種沒有氣味的固體。另一種化學除臭的方法是改變惡臭物質的溶解度或蒸發,如酸洗,將氣態氨轉化為溶解在酸中的離子氨,使其不再發出氣味?;瘜W方法適用于簡單的惡臭物質的氣味操控。假如惡臭物質的組成比較雜亂,就會運用不同的化學藥劑來操控不同的惡臭物質。然而,這些化學物質本身也或許發生氣味或穿插反響,使除臭劑的作用或作用更差。即使運用雜亂的化學物質,也只能有效地對付一些有氣味的物質。研討標明,化學除臭有時會降低幾種惡臭物質的氣味,然后進步其他惡臭物質的氣味。因而,化學除臭僅適用于單組分的氣味操控,如聚乙酰胺化工廠的生產?;瘜W除臭相對貴重?;瘜W除臭也可作為生物除臭的預處理或后處理方法。此外,化學除臭是一種等價反響,即一種等價于有臭味的物質,需求一種等價于化學藥劑。因而,當氣味濃度高時,很少運用化學除臭。不正確的除臭劑選擇會腐蝕設備。
              光氧催化設備